一種用于飽和石墨舟的夾具

一種用于飽和石墨舟的夾具飽和作用：條件是“一種用于飽和石墨舟的夾具內壁及硅片表面沉積速率一致”，而決定該速率的主要有溫度、電場、gas以及一種用于飽和石墨舟的夾具內壁的表面狀態(tài)這四大條件。

一種用于飽和石墨舟的夾具內壁表面狀態(tài)一致的條件：

1.一種用于飽和石墨舟的夾具內壁覆蓋一層氮化硅膜：

飽和工藝的作用就是在一種用于飽和石墨舟的夾具內壁上沉積一層氮化硅膜，從而使得內壁各處均呈氮化硅狀態(tài)，這樣會使一種用于飽和石墨舟的夾具內部各處的氮化硅沉積速率趨于一致；

2.一種用于飽和石墨舟的夾具內壁平坦度一致:①平坦度不同會使電場分布不均勻，理論上會使鍍膜不均勻；②平坦度不同會引起內壁表面積變化，會引起飽和程度不夠的現象。

飽和充分:①生產成本高;②飽和環(huán)境和實際鍍膜環(huán)境相同：硅片的存在會形成更大面積的電場，產生更多等離子體，一種用于飽和石墨舟的夾具內壁上沉積的氮化硅膜更充分。

飽和不夠充分:①生產成本低;②飽和程度不充分，前期鍍膜均勻性較差，色差片較多。